FNS, INC. “RF解决方案专业企业”,
用卓越的技术实力和挑战精神引领半导体领域的创新。
FNS, INC. 正在提供半导体及显示设备制造工程中的薄膜沉积和蚀刻工艺中将Chamer内气体进行激发,然后在等离子体状态下提升反应速度,并进行最适合工艺时所需的Remote Plasma Source和RF Generator、RF Matcher、DC Power Supply等电气电子控制装置相关的技术解决方案。
我们公司为了掌握最好的技术力量和品质竞争力,通过持续不断的研发投资,成功开发了韩国首个基于DLC材质的ESC表面沉积技术。
FNS, INC. 将致力于通过卓越的技术实力和挑战精神,成为主导未来技术创新的半导体领域国际领先企业。
FNS, INC. 将以卓越的技术力和挑战精神,尽最大努力成为主导未来技术革新的半导体领域全球领先企业。
- FNS, INC. 全体员工 -